[发明专利]一种多方位去杂质装置

摘要

本发明公开了一种多方位去杂质装置，包括去杂器本体、去杂器电源处、核心处、去杂机把手、左盘、去杂间和主盘；所述去杂器本体的左侧安装有去杂器电源处，所述去杂器电源处的上侧安装有去杂机管道，所述去杂机管道的上方安装有核心处，所述核心处的下侧安装有管道手柄，所述去杂机把手的右侧安装有排烟囱，且排烟囱的左侧安装有智能显示屏，所述左盘的下侧安装有螺旋式接口，所述去杂间的下侧安装有支撑点，本发明通过安装有通液处和稀释机，可以给被灰尘和油污污染的机器设备进行去杂，避免了有机溶剂挥发时对人体的伤害，在整个去杂的过程中，实现了快速去杂，提高了产品的综合竞争水平。

主权项

1.一种去杂器，包括去杂器本体(1)、去杂器电源处(2)、去杂机把手(6)、核心处(7)、左盘(10)、主盘(13)和去杂间(14)，其特征在于，所述去杂器本体(1)的左侧安装有去杂器电源处(2)，所述去杂器电源处(2)的上方安装有去杂机管道(3)，所述去杂机管道(3)的上方安装有核心处(7)，所述核心处(7)的下方安装有管道手柄(8)，且管道手柄(8)下方安装有去杂机把手(6)，所述去杂机把手(6)的右侧安装有排烟囱(9)，且排烟囱(9)的左侧安装有智能显示屏(5)，所述管道手柄(8)下方安装有左盘(10)，所述左盘(10)的下方安装有螺旋式接口(4)，所述螺旋式接口(4)的右侧安装有标签(11)，所述左盘(10)的下方安装有去杂间(14)，所述去杂间(14)的下方安装有去杂室(15)，所述支撑点(15)的左侧安装有主盘(13)，所述支撑点(15)的右侧安装有右盘(12)。