[发明专利]系列含高空间位阻基团修饰的Pd-PEPPSI-NHC配合物及用途在审
申请号: | 201711179433.8 | 申请日: | 2017-11-23 |
公开(公告)号: | CN108440599A | 公开(公告)日: | 2018-08-24 |
发明(设计)人: | 刘桂艳;韩方外;刘成鑫;徐颖 | 申请(专利权)人: | 天津师范大学 |
主分类号: | C07F15/00 | 分类号: | C07F15/00;B01J31/22;C07C15/14;C07C1/32;C07C25/18;C07C17/263 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人: | 朱红星 |
地址: | 300387 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一系列含高空间位阻基团修饰的Pd‑PEPPSI‑NHC配合物(以及配合物单晶)及用途。本发明所述的Pd‑PEPPSI‑NHC配合物是以含高空间位阻基团修饰的N‑杂环卡宾为配体,同时还选用吡啶或其衍生物作为辅助配体。本发明所述含高空间位阻基团修饰的Pd‑PEPPSI‑NHC配合物(以及配合物单晶)具有较高的稳定性,它还能作为催化剂高效的催化氯代芳烃和芳基硼酸的Suzuki‑Miyaura偶联反应。 | ||
搜索关键词: | 配合物 位阻基团 高空间 修饰 单晶 芳基硼酸 辅助配体 氯代芳烃 偶联反应 卡宾 配体 杂环 催化剂 催化 | ||
【主权项】:
1.一系列含高空间位阻基团修饰的Pd‑PEPPSI‑NHC配合物I, II和III具有如下结构通式:
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