[发明专利]系列含高空间位阻基团修饰的Pd-PEPPSI-NHC配合物及用途在审

专利信息
申请号: 201711179433.8 申请日: 2017-11-23
公开(公告)号: CN108440599A 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 刘桂艳;韩方外;刘成鑫;徐颖 申请(专利权)人: 天津师范大学
主分类号: C07F15/00 分类号: C07F15/00;B01J31/22;C07C15/14;C07C1/32;C07C25/18;C07C17/263
代理公司: 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 代理人: 朱红星
地址: 300387 *** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一系列含高空间位阻基团修饰的Pd‑PEPPSI‑NHC配合物(以及配合物单晶)及用途。本发明所述的Pd‑PEPPSI‑NHC配合物是以含高空间位阻基团修饰的N‑杂环卡宾为配体,同时还选用吡啶或其衍生物作为辅助配体。本发明所述含高空间位阻基团修饰的Pd‑PEPPSI‑NHC配合物(以及配合物单晶)具有较高的稳定性,它还能作为催化剂高效的催化氯代芳烃和芳基硼酸的Suzuki‑Miyaura偶联反应。
搜索关键词: 配合物 位阻基团 高空间 修饰 单晶 芳基硼酸 辅助配体 氯代芳烃 偶联反应 卡宾 配体 杂环 催化剂 催化
【主权项】:
1.一系列含高空间位阻基团修饰的Pd‑PEPPSI‑NHC配合物I, II和III具有如下结构通式:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津师范大学,未经天津师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711179433.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top