[发明专利]一种针对长波段微弱光的CMOS单光子雪崩二极管在审
申请号: | 201711121289.2 | 申请日: | 2017-11-14 |
公开(公告)号: | CN107946389A | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 王巍;陈婷;李俊峰;杨皓;徐媛媛;李双巧;王广;王冠宇;袁军;杨正琳 | 申请(专利权)人: | 重庆邮电大学 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/107;H01L31/18 |
代理公司: | 重庆市恒信知识产权代理有限公司50102 | 代理人: | 刘小红 |
地址: | 400065 重*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明请求保护一种针对长波段微弱光的CMOS单光子雪崩二极管,具体结构是在P型衬底上制作深N阱,然后在深N阱内制作P型重掺杂区,由P+层与深N阱构成PN结,作为雪崩倍增区,P+区周围环绕轻掺杂P阱作为保护环,入射光射入器件后在中等电场强度的深N阱区被吸收,产生的光生载流子向强电场区的雪崩倍增区移动。由于较长波段光产生的电子空穴在器件较深处形成,该发明深N阱可对这部分光信号进行有效探测。深N阱/P衬底作为屏蔽二极管,阻止衬底光生载流子扩散至PN结,从而减少了衬底慢光生载流子扩散对光电探测器响应速度的影响。本发明提高器件在长波段的吸收效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 针对 波段 微弱 cmos 光子 雪崩 二极管 | ||
【主权项】:
一种针对长波段微弱光的CMOS单光子雪崩二极管,包括P衬底层及深N阱层,所述深N阱层设置于P衬底层上,其特征在于,由P阱重掺杂区与深N阱构成PN结,作为雪崩倍增区,即作为工作二极管,P+区周围环绕轻掺杂P阱作为保护环;所述深N阱和P衬底之间的区域为屏蔽二极管区,阻止衬底光生载流子扩散至PN结,所述P衬底上还设置有电极Vcathode,Vcathode是指给这个电极加负电压,Vanode是加正电压。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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