[发明专利]一种针对长波段微弱光的CMOS单光子雪崩二极管在审

专利信息
申请号: 201711121289.2 申请日: 2017-11-14
公开(公告)号: CN107946389A 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 王巍;陈婷;李俊峰;杨皓;徐媛媛;李双巧;王广;王冠宇;袁军;杨正琳 申请(专利权)人: 重庆邮电大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 重庆市恒信知识产权代理有限公司50102 代理人: 刘小红
地址: 400065 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明请求保护一种针对长波段微弱光的CMOS单光子雪崩二极管,具体结构是在P型衬底上制作深N阱,然后在深N阱内制作P型重掺杂区,由P+层与深N阱构成PN结,作为雪崩倍增区,P+区周围环绕轻掺杂P阱作为保护环,入射光射入器件后在中等电场强度的深N阱区被吸收,产生的光生载流子向强电场区的雪崩倍增区移动。由于较长波段光产生的电子空穴在器件较深处形成,该发明深N阱可对这部分光信号进行有效探测。深N阱/P衬底作为屏蔽二极管,阻止衬底光生载流子扩散至PN结,从而减少了衬底慢光生载流子扩散对光电探测器响应速度的影响。本发明提高器件在长波段的吸收效率。
搜索关键词: 一种 针对 波段 微弱 cmos 光子 雪崩 二极管
【主权项】:
一种针对长波段微弱光的CMOS单光子雪崩二极管,包括P衬底层及深N阱层,所述深N阱层设置于P衬底层上,其特征在于,由P阱重掺杂区与深N阱构成PN结,作为雪崩倍增区,即作为工作二极管,P+区周围环绕轻掺杂P阱作为保护环;所述深N阱和P衬底之间的区域为屏蔽二极管区,阻止衬底光生载流子扩散至PN结,所述P衬底上还设置有电极Vcathode,Vcathode是指给这个电极加负电压,Vanode是加正电压。
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