[发明专利]一种基于低温还原的立方氮化锆粉体及其制备方法在审
| 申请号： | 201711115797.X | 申请日： | 2017-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN107777673A | 公开（公告）日： | 2018-03-09 |
| 发明（设计）人： | 丁军;陈洋;邓承继;余超;祝洪喜 | 申请（专利权）人： | 武汉科技大学 |
| 主分类号： | C01B21/076 | 分类号： | C01B21/076;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222 | 代理人： | 张火春 |
| 地址： | 430081 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于低温还原的立方氮化锆粉体及其制备方法。其技术方案是将30~35wt%的氧化锆粉、20~25wt%的还原剂、28~31wt%的六水氯化镁和15~17wt%的氯化钠混合，得到混合料；然后在氮气气氛条件下，以3~5℃/min的速率将所述混合料升温至700~1100℃，保温2~3h，自然冷却，得到氮化产物；再将所述氮化产物加入盐酸溶液中浸泡1~2h，用蒸馏水洗涤3~4次，在110℃条件下烘干，即得基于低温还原的立方氮化锆粉体。所述盐酸溶液的浓度为9~10wt%。本发明具有原料成本低、安全性高、无污染、生产周期短、工艺简单、合成温度低的特点；用该方法制备的基于低温还原的立方氮化锆粉体纯度高和晶体发育好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 低温 还原 立方 氮化 锆粉体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种基于低温还原的立方氮化锆粉体的制备方法，其特征在于：将30~35wt%的氧化锆粉、20~25wt%的还原剂、28~31wt%的六水氯化镁和15~17wt%的氯化钠混合，得到混合料；然后在氮气气氛条件下，以3~5℃/min的速率将所述混合料升温至700~1100℃，保温2~3h，自然冷却，得到氮化产物；再将所述氮化产物加入盐酸溶液中浸泡1~2h，用蒸馏水洗涤3~4次，在110℃条件下烘干，即得基于低温还原的立方氮化锆粉体；所述盐酸溶液的浓度为9~10wt%。
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