[发明专利]结构光投影模组、深度相机及制造结构光投影模组的方法在审

专利信息
申请号: 201711080702.5 申请日: 2017-11-06
公开(公告)号: CN107748475A 公开(公告)日: 2018-03-02
发明(设计)人: 黄源浩;王兆民;闫敏;许星 申请(专利权)人: 深圳奥比中光科技有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 北京龙双利达知识产权代理有限公司11329 代理人: 张欣,王君
地址: 518052 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种结构光投影模组、深度相机以及制造结构光投影模组的方法,该结构光投影模组包括光源,包括布置成二维阵列的多个子光源,用于发射与所述二维阵列对应的二维图案化光束;透镜,接收并汇聚所述二维图案化光束;衍射光学元件,接收经所述透镜汇聚后出射的所述二维图案化光束,并投射出斑点图案化光束;所述斑点图案包括与所述二维图案对应的多个像图案,所述多个像图案中的相邻的像图案之间的关系至少包括重叠、毗连以及间隔关系中的两种。本申请的结构光投影模组能够投影出具有较高不相关度的斑点图案。
搜索关键词: 结构 投影 模组 深度 相机 制造 方法
【主权项】:
一种结构光投影模组,其特征在于,包括:光源,包括布置成二维阵列的多个子光源,用于发射与所述二维阵列对应的二维图案化光束;透镜,接收并汇聚所述二维图案化光束;衍射光学元件,接收经所述透镜汇聚后出射的所述二维图案化光束,并投射出斑点图案化光束;所述斑点图案包括与所述二维图案对应的多个像图案,所述多个像图案中的相邻的像图案之间的关系至少包括重叠、毗连以及间隔关系中的两种。
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