[发明专利]显示基板的制造方法、显示基板、显示面板和显示装置有效
| 申请号： | 201711070639.7 | 申请日： | 2017-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN107680497B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 高永益;董婉俐;马宏伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/33 | 分类号： | G09F9/33;C23C16/04 |
| 代理公司： | 11138 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 滕一斌<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显示基板的制造方法、显示基板、显示面板和显示装置，属于显示技术领域。该方法包括：在衬底基板上方设置掩模板，掩模板包括遮挡区域，遮挡区域在衬底基板上的正投影与衬底基板的翻折区域存在重叠；利用掩模板在衬底基板上形成具有开口的无机层图案，开口在衬底基板上的正投影与衬底基板的翻折区域存在重叠。本发明通过掩模板直接遮挡衬底基板的翻折区域，再利用掩模板在衬底基板上形成无机层图案，由于掩模板的遮挡，无机层图案在翻折区域会存在一个开口，无需构图工艺即可去除无机层位于翻折区域的部分。解决了相关技术中过程较复杂，且耗时较长的问题。达到了能够方便快捷的去除无机层位于翻折区域的部分的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底基板 翻折区域 掩模板 无机层 开口 显示基板 遮挡区域 正投影 图案 去除 遮挡 构图工艺 显示面板 显示装置 再利用 耗时 制造 | ||
【主权项】：
1.一种显示基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：/n在衬底基板上方设置掩模板，所述掩模板包括遮挡区域，所述遮挡区域在所述衬底基板上的正投影与所述衬底基板的翻折区域存在重叠,所述衬底基板的翻折区域为预先设置的用于进行翻折的区域；/n利用所述掩模板在所述衬底基板上形成具有开口的无机层图案，所述开口在所述衬底基板上的正投影与所述衬底基板的翻折区域存在重叠。/n
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