[发明专利]具有混合深沟槽隔离的图像传感器有效
申请号: | 201711061711.X | 申请日: | 2017-11-02 |
公开(公告)号: | CN108022939B | 公开(公告)日: | 2019-06-11 |
发明(设计)人: | 熊志伟;毛杜立;文森特·韦内齐亚;陈刚;戴森·H·戴 | 申请(专利权)人: | 豪威科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘媛媛 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本申请案涉及具有混合深沟槽隔离DTI的图像传感器。所述图像传感器包含安置于半导体材料中所述半导体材料的第一侧与第二侧之间的多个光电二极管。所述图像传感器还包含安置于所述半导体材料中的多个混合DTI结构,其中所述多个光电二极管中的个别光电二极管由个别混合DTI结构分离。所述个别混合DTI结构包含从所述半导体材料的所述第一侧朝向所述第二侧延伸的浅部分,且所述浅部分包含电介质区及金属区,使得所述电介质区的至少一部分安置于所述半导体材料与所述金属区之间。所述混合DTI结构还包含深部分,所述深部分从所述浅部分延伸且安置于所述浅部分与所述半导体材料的所述第二侧之间。 | ||
搜索关键词: | 具有 混合 深沟 隔离 图像传感器 | ||
【主权项】:
1.一种图像传感器,其包括:多个光电二极管,其安置于半导体材料中所述半导体材料的第一侧与第二侧之间;及多个混合深沟槽隔离(DTI)结构,其安置于所述半导体材料中,其中所述多个光电二极管中的个别光电二极管是由所述多个混合深沟槽隔离(DTI)结构中的个别混合深沟槽隔离(DTI)结构分离,所述个别混合深沟槽隔离(DTI)结构中的每一者包含:浅部分,其从所述半导体材料的所述第一侧朝向所述第二侧延伸,其中所述浅部分包含电介质区及金属区,使得所述电介质区的至少一部分安置于所述半导体材料与所述金属区之间,其中所述浅部分的所述电介质区包含第一电介质及第二电介质,其中所述第二电介质的至少一部分安置于所述第一电介质与所述金属区之间;及深部分,其从所述浅部分延伸且安置于所述浅部分与所述半导体材料的所述第二侧之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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