[发明专利]一种氮化钛原子层沉积装置及其沉积方法

摘要

本发明公开了一种氮化钛原子层沉积装置及其沉积方法，通过对源瓶出口管路、钛的前驱体传输管路进行分段梯度升温加热、对前级管路进行分段梯度降温加热，以及将氧化剂吹扫管路直接接入真空泵而不经过腔室，并在ALD反应中通过提高氧化剂与钛的前驱体蒸气之间的流量比例、进行工艺前的管路预处理，以及多次将腔室和管路抽真空，可降低腔室尤其是前级管路内颗粒的产生，延长真空泵的维护周期，提高使用寿命，并可有效清除前驱体和氧化剂在管路和腔室壁的残留，降低非预期反应的发生以及降低杂质污染，不仅可提高薄膜的纯度，而且避免了复杂的气体处理系统设置。

主权项

1.一种氮化钛原子层沉积装置，其特征在于，包括：/n反应腔室，其通过前级管路连接真空泵；/n钛的前驱体传输管路，其一端连接反应腔室，另一端与载气及吹扫气体管路的一端对接，所述载气及吹扫气体管路与钛的前驱体传输管路接口的两端之间还并联设有用于装载钛的前驱体的源瓶；其中，所述源瓶通过源瓶进口管路接入载气及吹扫气体管路，并通过源瓶出口管路接入钛的前驱体传输管路；/n载气及吹扫气体管路，其一端分别连接钛的前驱体传输管路和源瓶，另一端连接载气及吹扫气体源；/n腔室压强维持管路，其一端接入钛的前驱体传输管路后连接反应腔室，另一端接入载气及吹扫气体管路；/n氧化剂传输管路，其一端连接反应腔室，另一端连接氧化剂源；/n氧化剂吹扫管路，其一端连接至载气及吹扫气体源，另一端在依次经氧化剂传输管路上游接入并由氧化剂传输管路下游接出后，直接接入真空泵；/n其中，所述源瓶出口管路、钛的前驱体传输管路、前级管路上设有加热单元，以对源瓶出口管路、钛的前驱体传输管路进行分段梯度升温加热，以及对前级管路进行分段梯度降温加热。/n