[发明专利]一种非制冷红外探测器的两点校正方法在审

专利信息
申请号: 201711022214.9 申请日: 2017-10-26
公开(公告)号: CN107741279A 公开(公告)日: 2018-02-27
发明(设计)人: 刘玉姣;李树林;吕星煜;彭明轩 申请(专利权)人: 北京遥感设备研究所
主分类号: G01J5/52 分类号: G01J5/52
代理公司: 中国航天科工集团公司专利中心11024 代理人: 孔晓芳
地址: 100854*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种非制冷红外探测器的两点校正方法,利用两种辐射率不同的材料做挡片,对探测器进行两点校正。首先搭建非制冷红外探测器的两点校正系统,包括挡片A、挡片B、探测器及输出电路模块、挡片控制模块和FPGA数据处理模块;然后利用探测器及输出电路模块采集模拟信号并转化为数字信号;利用挡片控制模块控制挡片A和挡片B有序的出现在探测器玻璃窗前,获得不同的辐射通量;最后利用FPGA数据处理模块利用采集数据实现两点非均匀校正。本发明对探测器光敏元的偏置和增益都作了补偿,有效地提高了成像质量。
搜索关键词: 一种 制冷 红外探测器 两点 校正 方法
【主权项】:
一种非制冷红外探测器的两点校正方法,其特征在于具体步骤为:第一步 搭建非制冷红外探测器的两点校正系统非制冷红外探测器的两点校正系统,包括:挡片A、挡片B、探测器及输出电路模块、挡片控制模块和FPGA数据处理模块;第二步 探测器及输出电路模块采集模拟信号并转化为数字信号;第三步 挡片控制模块控制挡片A和挡片B有序的出现在探测器玻璃窗前,获得不同的辐射通量;第四步 FPGA数据处理模块利用采集数据实现两点非均匀校正。
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