[发明专利]一种大型PVD多弧加磁控镀铜设备及镀铜工艺

摘要

本发明公开了一种大型PVD多弧加磁控镀铜设备及镀铜工艺，该设备包括真空炉、磁控平面铜靶、磁控中频电源、偏压脉冲电源、多弧钛靶和多弧靶电源；真空炉上安装有扩散泵抽真空机组和冷却套，冷却套安装于真空炉外侧壁并且设有环绕于真空炉的冷却流道，该镀铜工艺，通过在真空条件下，利用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上，整体设备占地面积小，镀铜质量稳定，不易被氧化，不会发生任何化学反应，能耗小原材料单一，只需要金属铜或合金铜，就可以实现纳米级到微米级铜膜的镀制，无任何环境污染，可实现零排放。

主权项

1.一种大型PVD多弧加磁控镀铜设备，其特征在于：包括真空炉、磁控平面铜靶、磁控中频电源、偏压脉冲电源、多弧钛靶和多弧靶电源；磁控平面铜靶和多弧钛靶布置于真空炉内侧壁，并由相应的磁控中频电源和多弧靶电源供电，所述真空炉上安装有扩散泵抽真空机组和冷却套，所述冷却套安装于真空炉外侧壁并且设有环绕于真空炉的冷却流道；所述冷却流道为多个并且均螺旋环绕于真空炉的外侧壁；所述冷却套内设有与真空炉相连的多个螺旋隔板，通过螺旋隔板将冷却套与真空炉之间的空间隔成所述冷却流道；所述冷却套上端和下端均设有与各个冷却流道相连通的环形流道；其中位于上端的环形流道连接有进液管，位于下端的环形流道连接有排液管；所述进液管低于各个冷却流道的上端口，所述排液管高于各个冷却流道的下端口。