[发明专利]一种离子注入机中剂量控制系统在审

专利信息
申请号: 201710957037.7 申请日: 2017-10-16
公开(公告)号: CN109671606A 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 田龙;孙腾;李冠嫁 申请(专利权)人: 北京中科信电子装备有限公司
主分类号: H01J37/304 分类号: H01J37/304;H01J37/317
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 马强
地址: 101111 北京市通*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种离子注入机中剂量控制系统,属于半导体制造领域。一种离子注入机中剂量控制系统,包括上位机(1)、光缆(2)、嵌入式系统(3)、法拉第筒(4)、同轴电缆(5)、剂量控制器(10)及其内部的档位选择与AD转换模块(6)、束流检测设备(7)、波形发生器(8)、X/Y向扫描电源(9)。说明书对一种离子注入机中剂量控制系统做出了详细说明,并给出了具体实施例。
搜索关键词: 剂量控制系统 离子注入机 半导体制造领域 波形发生器 剂量控制器 嵌入式系统 档位选择 法拉第筒 检测设备 扫描电源 同轴电缆 上位机 束流 光缆
【主权项】:
1.一种离子注入机中剂量控制系统,其特征在于:该系统包括上位机(1)、光缆(2)、嵌入式系统(3)、法拉第筒(4)、同轴电缆(5)、剂量控制器(10)及其内部的档位选择与AD转换模块(6)、束流检测设备(7)、波形发生器(8)、X/Y向扫描电源(9)。
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