[发明专利]一种用于点源透射比测试的光陷阱系统有效

专利信息
申请号: 201710896272.8 申请日: 2017-09-28
公开(公告)号: CN107830992B 公开(公告)日: 2019-10-15
发明(设计)人: 曹智睿;董吉洪 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G01N21/59;G02B17/02
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 赵勍毅
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明实施例公开一种用于点源透射比测试的光陷阱系统,该光陷阱系统采用四个散射面组成测试环境,并在测试环境侧边另设两个散射面而形成腔体,在预定散射面上开设通光口,等腰三角形棱柱散射面的底边紧贴该预定散射面,使得散射面覆盖待测系统的物方视场。本发明实施例所提供的光陷阱系统中背景环境杂散光至少经过六次内壁反射才能返回待测系统的成像视场,具有良好的杂散光抑制效果,从而能达到10‑10量级的测试精度。本发明实施例所提供的光陷阱系统结构紧凑,从而工程实现难度低且成本低。
搜索关键词: 一种 用于 透射 测试 陷阱 系统
【主权项】:
1.一种用于点源透射比测试的光陷阱系统,其特征在于,所述光陷阱系统包括:四个散射面组成一测试环境,所述测试环境用于放置待测系统;所述测试环境与待测系统之间布置两个另外的散射面,用于形成两个对称的腔体;等腰三角形棱柱散射面,所述等腰三角形棱柱散射面的底边位于组成所述测试环境的一散射面上,所述散射面覆盖待测系统的物方视场;所述等腰三角形棱柱散射面的底边所位于的散射面上设有一通光口,用于通过测试点源透射比的光束;四个散射面组成一矩形测试环境,第一散射面为所述矩形测试环境的左侧面,第二散射面为所述矩形测试环境的顶面,第三散射面为所述矩形测试环境的右侧面,第四散射面为所述矩形测试环境的底面;第五散射面间隔平行于所述第一散射面,所述第五散射面与所述第一散射面形成第一腔体;第六散射面间隔平行于所述第三散射面,所述第六散射面与所述第三散射面形成第二腔体;所述等腰三角形棱柱散射面的底边位于所述第二散射面上,所述第二散射面上设有一通光口;第五散射面和第六散射面对称地位于待测系统的两侧,第一腔体和第二腔体的腔体宽度相同,待测系统200遮光罩的后向散射光束被等腰三角形棱柱散射面70散射至待测系统200物方视场之外的区域,所述第一散射面的或所述第三散射面的长度大于所述待测系统的长度2倍,所述第五散射面的长度小于等于所述第一散射面长度的3/4。
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