[发明专利]一种阵列基板和阵列基板的制造方法

摘要

本发明公开了一种阵列基板和阵列基板的制造方法，该制造方法包括步骤形成开关组件；同时，在栅极绝缘层延伸部的上方蚀刻得到第二非晶硅层、第二N型非晶硅层和光传感金属，以形成光传感器；在所述源极金属、漏极金属和光传感金属的上方形成光传感层和钝化层；通过第二道光罩蚀刻形成位于源极金属和漏极金属的第一光传感层和第一钝化层，以及形成位于光传感金属上方的第二光传感层和第二钝化层。本发明的光传感下金属层、源极金属和漏极金属是通过同一道光罩制程形成的，节约了光罩制程，提高了生产效率。

主权项

一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括步骤：在基板上形成栅极金属，并在栅极金属上方形成栅极绝缘层；在栅极绝缘层的上方依次形成非晶硅层、N型非晶硅层和金属层；在金属层的上方形成光阻层，通过第一道光罩形成位于所述栅极金属上方的第一非晶硅层、第一N型非晶硅层以及相对设置的源极金属和漏极金属，以形成开关组件；同时，在栅极绝缘层延伸部上蚀刻得到第二非晶硅层、第二N型非晶硅层和光传感金属，以形成光传感器；在所述源极金属、漏极金属和光传感金属的上方形成光传感层和钝化层；通过第二道光罩蚀刻形成位于源极金属和漏极金属的第一光传感层和第一钝化层，以及形成位于光传感金属上方的第二光传感层和第二钝化层。