[发明专利]厚度测试方法及装置有效
| 申请号： | 201710866721.4 | 申请日： | 2017-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN107504912B | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 孙雪菲;刘建宏;李正亮;张斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种厚度测试方法及装置，涉及厚度测试技术领域，能够测试任意膜厚，且提高测量精度。本发明的主要技术方案为：一种厚度测试方法，用于测试透光的待测样品的待测层厚度，包括：将待测样品置于光学器件与金属层之间，其中，光学器件包括入光面和出光面；调节向所述光学器件的入光面发射的入射光，使从光学器件的出光面出射的光强小于10 |
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| 搜索关键词： | 厚度 测试 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种厚度测试方法，用于测试透光的待测样品的待测层厚度，其特征在于，包括：将所述待测样品置于光学器件与金属层之间，其中，所述光学器件包括入光面和出光面；调节向所述光学器件的入光面发射的入射光，使从所述光学器件的出光面出射的光强小于10‑12W/m2，以得到所述入射光的光学参数；根据所述入射光的光学参数计算所述待测层的厚度。
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