[发明专利]Ebert-Fastic光路与CMOS检测系统相结合的全谱交直流电弧直读光谱仪在审
| 申请号： | 201710865771.0 | 申请日： | 2017-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN109540871A | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 付国余;吴冬梅;赵燕秋;余樹时;于中奇;谭婷;李赛男;刘欠洋 | 申请（专利权）人： | 北京北分瑞利分析仪器（集团）有限责任公司 |
| 主分类号： | G01N21/67 | 分类号： | G01N21/67 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 100094 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种Ebert‑Fastic光路与CMOS检测系统相结合的全谱交直流电弧直读光谱仪，其包括：激发光源以及激发光源之后沿光路依序设置的透镜保护片、第一透镜、光阑、第二透镜、第三透镜、入射狭缝、凹面反射镜、平面光栅、平面反光镜和光电转换装置，第一透镜和第二透镜分别由一凸透镜和一凹透镜复合组成，其中：待测的固体粉末样品置于激发光源的电极之间，激发光源激发出的特征光经过第一透镜消除色差并聚焦后，将光阑的成像经过第二透镜聚焦，之后再通过第三透镜均匀投射至入射狭缝，由入射狭缝射出的复合光经凹面反射镜反射后分解为衍射角各不相同的多路单色平行光，多路单色平行光经过平面光栅后色散为单色平行光，之后再经凹面反射镜反射后成像至光电转换装置。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 激发光源 凹面反射镜 单色平行光 入射狭缝 光路 光电转换装置 交直流电弧 直读光谱仪 检测系统 平面光栅 多路 光阑 全谱 成像 反射 凸透镜 固体粉末样品 色差 平面反光镜 透镜保护 透镜聚焦 电极 凹透镜 复合光 特征光 衍射角 色散 射出 投射 复合 聚焦 分解 激发 | ||
【主权项】：
1.一种Ebert‑Fastic光路与CMOS检测系统相结合的全谱交直流电弧直读光谱仪，其特征在于，包括：激发光源以及所述激发光源之后沿光路依序设置的第一透镜、光阑、第二透镜、第三透镜、入射狭缝、凹面反射镜、平面光栅和光电转换装置，所述第一透镜和所述第二透镜分别由一凸透镜和一凹透镜复合组成，其中：待测的固体粉末样品置于所述激发光源的电极之间，所述激发光源激发出的特征光经过所述第一透镜消除色差并聚焦后，将所述光阑的成像经过所述第二透镜聚焦，之后再通过所述第三透镜均匀投射至所述入射狭缝，由所述入射狭缝射出的复合光经凹面反射镜反射后分解为衍射角各不相同的多路单色平行光，多路单色平行光经过平面光栅后色散为单色平行光，之后再经凹面发射镜反射后成像至所述光电转换装置。
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