[发明专利]一种红外传感器结构及其制备方法有效
| 申请号： | 201710853651.9 | 申请日： | 2017-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN107697881B | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 康晓旭 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | B81B7/02 | 分类号： | B81B7/02;H01L31/101;H01L31/18 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种红外传感器结构及其制备方法，通过在互连层顶部的顶部介质层中刻蚀出沟槽，并沟槽之上制备红外探测结构，从而在红外探测结构和互连层直接接触后，使沟槽形成空腔，利用互连层来支撑红外探测结构，解决了传统红外传感器结构中采用支撑孔来支撑红外探测结构的支撑力受到限制的问题；并且，简化了红外传感器的结构和制备工艺，大大减少了工艺成本，有利于大规模生产，还减薄了红外传感器的纵向高度，有利于实现红外传感器结构的轻薄化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 红外传感器 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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