[发明专利]羟肟酸型蒙脱土离子印迹材料及其制备方法和应用有效
申请号: | 201710839903.2 | 申请日: | 2017-09-18 |
公开(公告)号: | CN107629178B | 公开(公告)日: | 2019-12-06 |
发明(设计)人: | 汤琳;朱超;胡天觉;曾光明;邓垚成;王佳佳;刘雅妮;方思源 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
主分类号: | C08F292/00 | 分类号: | C08F292/00;C08F220/20;C08F8/30;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/20 |
代理公司: | 43008 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 何文红<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 410082 湖南省长沙*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明中公开了一种羟肟酸型蒙脱土离子印迹材料及其制备方法和应用,该羟肟酸型蒙脱土离子印迹材料是以蒙脱土为载体,通过表面离子印迹技术和电子转移活化原子转移自由基聚合技术在蒙脱土表面嫁接羟肟酸基团,以金属离子为模板,乙二醇二缩水甘油醚为交联剂,对蒙脱土表面的羟肟酸基团进行金属离子印迹,洗脱模板后制备得到。本发明的羟肟酸型蒙脱土离子印迹材料具有选择性吸附量大、吸附效率高、性质稳定、无污染、重复利用性好等优点,其制备方法具有步骤简单、操作方便、生产效率高等优点,将其用于处理重金属废水时具有操作简单、处理成本低,对重金属吸附效果好等优点。 | ||
搜索关键词: | 蒙脱土 羟肟酸 离子印迹材料 金属离子 制备 乙二醇二缩水甘油醚 原子转移自由基聚合 制备方法和应用 选择性吸附 重复利用性 重金属废水 重金属吸附 表面嫁接 表面离子 电子转移 生产效率 吸附效率 洗脱模板 性质稳定 印迹技术 交联剂 活化 印迹 | ||
【主权项】:
1.一种羟肟酸型蒙脱土离子印迹材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:/nS1、将蒙脱土、抗坏血酸和甲基丙烯酸羟乙脂分散在二甲亚砜中,得到蒙脱土、抗坏血酸、甲基丙烯酸羟乙脂的二甲亚砜混合液;将所述蒙脱土、抗坏血酸、甲基丙烯酸羟乙脂的二甲亚砜混合液与五甲基二乙烯三胺、溴化铜的二甲亚砜混合溶液混合,搅拌,清洗,离心,真空干燥,得到聚甲基丙烯酸羟乙酯/蒙脱土复合材料;/nS2、将所述聚甲基丙烯酸羟乙酯/蒙脱土复合材料与二甲亚砜混合进行溶胀,加入5-氯甲基水杨羟肟酸的二甲亚砜混合溶液进行反应,过滤,洗涤,真空干燥,得到羟肟酸型蒙脱土复合吸附材料;/nS3、将所述羟肟酸型蒙脱土复合吸附材料与金属离子溶液混合,使所述羟肟酸型蒙脱土复合吸附材料吸附金属离子,过滤,清洗,真空干燥,得到吸附有金属离子的羟肟酸型蒙脱土复合材料;/nS4、将所述吸附有金属离子的羟肟酸型蒙脱土复合材料与乙醇和水的混合溶液混合,加入乙二醇二缩水甘油醚,搅拌,过滤,洗脱金属离子,洗涤,真空干燥,得到羟肟酸型蒙脱土离子印迹材料;/n步骤S1中,所述蒙脱土在使用之前还包括对蒙脱土进行活化,包括以下步骤:/n(1)将蒙脱土分散在乙醇和水的混合溶液中,于常温下搅拌2h~4h,加入硅烷剂,升温至50℃~80℃搅拌1h~3h,得到悬浮液;将所述悬浮液在50℃~100℃下恒温搅拌60h~84h,在搅拌过程中每隔12h进行超声0.5h~2h,过滤,清洗,真空干燥,得到氨基化蒙脱土;/n(2)将所述步骤(1)中的氨基化蒙脱土分散在无水二氯甲烷中,得到氨基化蒙脱土和二氯甲烷的混合液;在冰水浴中,将所述氨基化蒙脱土和二氯甲烷的混合液与2-溴代异丁酰溴混合,在0℃~10℃下搅拌0.5h~2h,升温至20℃~40℃搅拌20h~36h,过滤,清洗,真空干燥,得到活化蒙脱土。/n
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