[发明专利]抛光皮应用的基布在审
申请号: | 201710833780.1 | 申请日: | 2017-09-15 |
公开(公告)号: | CN109518356A | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 东莞市艾法研磨科技有限公司 |
主分类号: | D04H1/4382 | 分类号: | D04H1/4382;D04H1/435;D04H1/4334;D04H1/4258;D04H1/46;D04H1/732 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 陈正兴 |
地址: | 523000 广东省东莞市清溪*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开的抛光皮应用的基布,由涤纶、粘胶及锦纶组成,其中按照以下质量分数设定组分:涤纶:65~75%,粘胶:15~25%,锦纶:5~15%;可保障抛光皮的使用寿命大大增强,尤其是便于添加聚氨酯及氧化铈,有效实现高精度的抛光效果,获得更好的抛光效果,成分简单,可有效节约成本。 | ||
搜索关键词: | 抛光皮 锦纶 抛光效果 涤纶 基布 粘胶 有效节约成本 使用寿命 有效实现 质量分数 聚氨酯 氧化铈 应用 | ||
【主权项】:
1.抛光皮应用的基布,其特征在于,该方法包括以下步骤:所述基布由涤纶、粘胶及锦纶组成,其中按照以下质量分数设定组分:涤纶 65~75%粘胶 15~25%锦纶 5~15%。
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