[发明专利]一种高光谱异常检测子空间投影图的统计模型拟合方法在审
| 申请号： | 201710832495.8 | 申请日： | 2017-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN107578421A | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 李智勇 | 申请（专利权）人： | 湖南神帆科技有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/194 | 分类号： | G06T7/194;G06T19/20 |
| 代理公司： | 长沙明新专利代理事务所(普通合伙)43222 | 代理人： | 叶舟 |
| 地址： | 410000 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高光谱异常检测子空间投影图的统计模型拟合方法，包括下述步骤第一步推定投影图非中心开方分布模型；第二步估算非中开方分布模型自由度参数；第三步估算非中开方分布模型非中心参数；第四步利用非中心开方分布拟合投影图数据的统计分布，实现基于此非中心开方分布拟合投影图数据的统计分布的恒虚警检测。本发明改善了对高光谱异常检测投影图统计模型拟合的效果，降低由于统计模型误差对后续CFAR检测的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 异常 检测 空间 投影图 统计 模型 拟合 方法 | ||
【主权项】：
一种高光谱异常检测子空间投影图的统计模型拟合方法，其特征在于，包括下述步骤：第一步：推定投影图非中心开方分布模型；第二步:估算非中开方分布模型自由度参数；第三步：估算非中开方分布模型非中心参数；第四步:利用非中心开方分布拟合投影图数据的统计分布，实现基于此非中心开方分布拟合投影图数据的统计分布的恒虚警检测。
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