[发明专利]一种太阳能电池片的低压氧化工艺有效

专利信息
申请号: 201710829538.7 申请日: 2017-09-14
公开(公告)号: CN107681018B 公开(公告)日: 2020-03-20
发明(设计)人: 赵颖;郭望东;贾松燕;任永伟;董方 申请(专利权)人: 横店集团东磁股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 322118 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种太阳能电池片的低压氧化工艺,主要步骤包括:预处理、反应准备、氧化反应、降温退火和退舟。本发明于低压、温度低于800℃的环境下的低压氧化工艺生成的二氧化硅膜使得少数载流子的寿命得以提高,最终提高电池的短路电流和开路电压,从而改善光电转换效率,低压扩散炉与常压扩散炉相比具有压强小、气流稳定等特点,使得生成的二氧化硅膜结构更致密,更均匀,制备的二氧化硅膜具有较好的抗PID性能。
搜索关键词: 一种 太阳能电池 低压 氧化 工艺
【主权项】:
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