[发明专利]触控屏及其制备方法以及显示装置在审
| 申请号： | 201710818253.3 | 申请日： | 2017-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN107577373A | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 朱顺成;王静;丁贤林;谢晓冬;何敏;田健;李冬;郑启涛;张贵玉;田新斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 牛南辉,李峥 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种触控屏及其制备方法以及显示装置。该制备方法包括提供基板；在所述基板上形成第一导电层；使用第一掩模构图所述第一导电层以形成至少一个第一触控电极，所述第一触控电极包括第一触控结构以及与所述第一触控结构连接的第一布线；在所述第一导电层上形成介质层；在所述介质层上形成第二导电层；使用第二掩模构图所述第二导电层以形成至少一个第二触控电极，所述第二触控电极包括第二触控结构以及与所述第二触控结构连接的第二布线。本公开实施例所提供的方法仅使用两个掩模板即可制备触控屏，能够简化触控屏的制作过程，并降低触控屏的制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 触控屏 及其 制备 方法 以及 显示装置 | ||
【主权项】：
一种用于制备触控屏的方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成第一导电层；使用第一掩模构图所述第一导电层以形成至少一个第一触控电极，所述第一触控电极包括第一触控结构以及与所述第一触控结构连接的第一布线；在所述第一导电层上形成介质层；在所述介质层上形成第二导电层；使用第二掩模构图所述第二导电层以形成至少一个第二触控电极，所述第二触控电极包括第二触控结构以及与所述第二触控结构连接的第二布线。
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