[发明专利]一种图案化方法在审

专利信息
申请号: 201710773924.9 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN107527799A 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 张高升;刘聪;沈剑平;贺晓平;万先进 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L21/033 分类号: H01L21/033
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 赵秀芹,王宝筠
地址: 430074 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请实施例公开了一种图案化方法,该方法在第一对硬掩模层进行刻蚀,形成图案化的第一硬掩模层后,采用腐蚀性酸液清洗该图案化的第一硬掩模层。如此,就可以将第一硬掩模层刻蚀过程中产生的副产物从图案化后的第一硬掩模层表面清洗掉,该清洗掉刻蚀副产物的第一硬掩模层表面有利于后续待刻蚀材料层的沉积,从而能够在图案化后的第一硬掩模层的侧壁上形成台阶覆盖率较好的侧墙,使得侧墙顶部厚度与底部厚度相当,使得侧墙联线横截面面积均匀,而且去除掉与侧墙接触的无定型碳硬掩模层之后,侧墙也不很难倾斜,因此当以该侧墙为掩蔽时,最终能够在待刻蚀材料层形成质量较好的图形,从而有利于提高产品的良率。
搜索关键词: 一种 图案 方法
【主权项】:
一种图案化方法,其特征在于,包括:提供衬底,所述衬底上形成有待刻蚀材料层;在所述待刻蚀材料层上形成第一硬掩模层,所述第一硬掩模层的材料为无定型碳;对所述第一硬掩模层进行刻蚀,形成图案化的第一硬掩模层;采用腐蚀性酸液清洗所述图案化的第一硬掩模层;沉积第二掩模层;以所述图案化后的第一硬掩模层为刻蚀停止层,刻蚀第二掩模层,以在所述图案化的第一硬掩模层的侧壁形成侧墙;以所述侧墙作为掩蔽,刻蚀所述图案化的第一硬掩模层。
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