[发明专利]一种低电平电场照射下非封闭舱室内均匀场区域划定方法有效

专利信息
申请号: 201710773723.9 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN107657082B 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 廖意;石国昌;应小俊;张元 申请(专利权)人: 上海无线电设备研究所
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06F30/15;G06F111/10
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 朱成之
地址: 200233 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种低电平电场照射下非封闭舱室内均匀场区域划定方法,包括以下过程:建立非封闭舱室和模式搅拌器的电磁仿真模型,设置舱室内待划定区域;数值分析外部低电平电场照射下舱室内的场强分布,得到待划定区域的场强数据;基于测试标准中的均匀性统计方法,计算区域内观察点的标准偏差值;判断观察点的标准偏差值是否满足均匀性要求,若否,继续缩小待划定区域的体积直至满足均匀性要求。本发明具有解决飞机级低电平扫描场测试时实际舱室非封闭结构带来的难题,不同于封闭混响室结构,考虑了舱室开口对能量密度和场均匀性的影响,为低电平扫描场测试时飞机舱室内接收天线/探头与搅拌器的位置布局提供有效支撑的优点。
搜索关键词: 一种 电平 电场 照射 封闭 舱室 均匀 区域 划定 方法
【主权项】:
一种低电平电场照射下非封闭舱室内均匀场区域划定方法,其特征在于,包括以下过程:建立非封闭舱室和模式搅拌器的电磁仿真模型,设置舱室内待划定区域;数值分析外部低电平电场照射下舱室内的场强分布,得到待划定区域的场强数据;基于测试标准中的均匀性统计方法,计算区域内观察点的标准偏差值;判断观察点的标准偏差值是否满足均匀性要求,若否,继续缩小待划定区域的体积直至满足均匀性要求。
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