[发明专利]一种用于PVD镀膜的反应腔室以及加工方法在审
| 申请号： | 201710742344.3 | 申请日： | 2017-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN107620047A | 公开（公告）日： | 2018-01-23 |
| 发明（设计）人： | 童磊 | 申请（专利权）人： | 苏州安江源光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 上海宣宜专利代理事务所(普通合伙)31288 | 代理人： | 刘君 |
| 地址： | 215152 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种用于PVD镀膜的反应腔室以及加工方法，包括抽取真空、加热靶材、镀膜。所述的PVD镀膜反应过程在一个完全密封真空的反应腔室中进行，通过电子枪对靶材加热，使靶材蒸发至工件表面形成镀膜涂层。利用上述的PVD反应腔室，包括反应腔室本体、电子枪坩埚台、真空泵以及待镀膜产品工位，其中电子枪坩埚台拥有多个凹糟，每个凹槽中放着不同的靶材材料，可以根据防爆膜的需要，对所需靶材所在的凹糟单独加热，结构简单，使用方便，实用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 pvd 镀膜 反应 以及 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种用于PVD镀膜的加工方法，包括：抽取真空：将镀膜工件放置于腔室内部顶端，用真空泵将腔室内抽取至真空。加热靶材：根据防爆膜产品的需求选择靶材，将所需靶材旋转至电子枪上端，启动电子枪，对靶材加热使其蒸发。镀膜：靶材经电子枪加热蒸发至腔室顶部，沉积于腔室顶部的产品工件上。
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