[发明专利]曝光设备、曝光方法及器件制造方法在审

专利信息
申请号: 201710701074.1 申请日: 2017-08-16
公开(公告)号: CN107861337A 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 松浦诚司 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 李兰,孙志湧
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及曝光设备、曝光方法及器件制造方法。曝光设备包括偏振照明光的偏振构件和具有至少一个开口的滤光器。所述偏振构件包括第一偏振单元和第二偏振单元,所述第二偏振单元围绕所述第一偏振单元布置。所述第二偏振单元被构成为偏振在沿着第一偏振单元的外周的周向方向上进入第二偏振单元的照明光。第一偏振单元的至少一部分被构成为在与第二偏振单元的下述部分中的偏振方向正交的方向上偏振照明光,第二偏振单元的所述部分位于第一偏振单元的中央部分的相反侧。开口布置在滤光器中,使得在滤光器和偏振构件的后级处的照明光包括由第一和第二偏振单元所偏振的照明光。
搜索关键词: 曝光 设备 方法 器件 制造
【主权项】:
一种曝光设备,包括:发射用于曝光的照明光的光源;偏振所述照明光的偏振构件;以及具有至少一个开口的滤光器,其中,所述偏振构件包括第一偏振单元和第二偏振单元,当相对于所述偏振构件从所述照明光的入射方向观察时,所述第二偏振单元被布置成围绕着所述第一偏振单元,其中,所述第二偏振单元被构成为在沿着所述第一偏振单元的外周的周向方向上偏振进入所述第二偏振单元的所述照明光的至少一部分,其中,所述第一偏振单元的至少一部分被构成为在与所述第二偏振单元的一部分中的偏振方向正交的方向上偏振所述照明光,当从所述第一偏振单元的所述至少一部分观察时,所述第二偏振单元的所述部分位于所述第一偏振单元的中央部分的相反侧,以及其中,所述开口布置在所述滤光器中,使得在所述照明光的光路中在所述滤光器和所述偏振构件的后级处的所述照明光包括由所述第一偏振单元偏振的所述照明光和由所述第二偏振单元偏振的所述照明光。
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