[发明专利]基于InP衬底剥离的红外光电探测器及其预制件的制备方法在审
申请号: | 201710695994.7 | 申请日: | 2017-08-15 |
公开(公告)号: | CN107634121A | 公开(公告)日: | 2018-01-26 |
发明(设计)人: | 黄寓洋 | 申请(专利权)人: | 苏州苏纳光电有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32297 | 代理人: | 陆明耀 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于InP衬底剥离的红外光电探测器的制备方法,在所述InP衬底上形成停刻层;在所述停刻层表面形成保护层;在所述保护层表面形成腐蚀剥离层;在所述腐蚀剥离层表面形成探测器外延层,在所述探测器外延层的第一表面形成第一电极,得到红外光电探测器预制件;在预制件外延层第一电极表面形成支撑部;通过腐蚀剂腐蚀所述腐蚀剥离层,使所述探测器外延层脱离所述保护层,得到剥离件;在所述剥离件与支撑部相对的一面上形成第二电极,并退火,得到红外光电探测器;本发明的探测器制备方式可将InP衬底进行重复利用,降低器件生产成本;同时可将探测器制备成柔性器件,扩大其应用范围。 | ||
搜索关键词: | 基于 inp 衬底 剥离 红外 光电 探测器 及其 预制件 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于InP衬底剥离的红外光电探测器预制件的制备方法,其特征在于包括,在所述InP衬底上形成停刻层;在所述停刻层表面形成保护层;在所述保护层表面形成腐蚀剥离层;在所述腐蚀剥离层表面形成探测器外延层,在所述探测器外延层的第一表面形成第一电极,得到红外光电探测器预制件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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