[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效

申请号：	201710690679.5	申请日：	2017-08-11
公开（公告）号：	CN107507850B	公开（公告）日：	2020-02-14
发明（设计）人：	崔海峰;徐德智;段献学	申请（专利权）人：	京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号：	H01L27/32	分类号：	H01L27/32;H01L27/12;G02F1/1368;H01L21/77
代理公司：	11262 北京安信方达知识产权代理有限公司	代理人：	胡艳华;李丹
地址：	100015 ***	国省代码：	北京;11
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摘要：	本发明实施例公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，该阵列基板包括：薄膜晶体管、连接层、第一钝化层、第二钝化层和像素电极；其中，连接层设置在薄膜晶体管的漏电极上，第一钝化层暴露出连接层，像素电极通过第二钝化层上的过孔与连接层连接，本发明的技术方案通过设置连接漏电极和像素电极的连接层，且连接层暴露出第一钝化层，实现了只在第二钝化层上设置过孔，避免了过孔底部底切现象的发生，保证了像素电极和源漏电极之间的正常连接，提高了阵列基板的良品率。
搜索关键词：	一种阵列及其制作方法显示装置
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【主权项】：

1.一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括：/n在薄膜晶体管的漏电极上形成连接层；/n形成暴露出所述连接层的第一钝化层；/n依次形成第二钝化层和像素电极，其中，所述像素电极通过第二钝化层的过孔与所述连接层连接。/n

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