[发明专利]低漏电流的动态随机存取存储器及其相关制造方法在审

专利信息
申请号: 201710671760.9 申请日: 2017-08-08
公开(公告)号: CN107706178A 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 黄立平 申请(专利权)人: 钰创科技股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种低漏电流的动态随机存取存储器及其相关制造方法。所述制造方法包含在一基底内形成所述动态随机存取存储器的多个栅极;通过一第一离子注入在所述基底内形成所述动态随机存取存储器的多个漏/源极;及在所述多个漏/源极形成后,通过一第二离子注入在所述多个漏/源极的全部漏/源极或部分漏/源极的下方形成多个轻掺杂漏极,其中所述多个轻掺杂漏极是用来降低所述动态随机存取存储器内的漏电流,且所述第二离子注入具有一预定入射角度。因此,所述多个轻掺杂漏极可有效降低所述动态随机存取存储器的总漏电流。也就是说本发明将可使具有所述动态随机存取存储器的便携式电子产品的待机时间大幅延长。
搜索关键词: 漏电 动态 随机存取存储器 及其 相关 制造 方法
【主权项】:
一种低漏电流的动态随机存取存储器的制造方法,包含:在一基底内形成所述动态随机存取存储器的多个栅极;通过一第一离子注入在所述基底内形成所述动态随机存取存储器的多个漏/源极;及其特征在于还包含:在所述多个漏/源极形成后,通过一第二离子注入在所述多个漏/源极的全部漏/源极或部分漏/源极的下方形成多个轻掺杂漏极,其中所述多个轻掺杂漏极是用来降低所述动态随机存取存储器内的漏电流,且所述第二离子注入具有一预定入射角度。
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