[发明专利]一种掩膜板有效
| 申请号： | 201710649786.3 | 申请日： | 2017-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN107557731B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 蒋谦;陈永胜 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 44280 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 袁江龙 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种掩膜板，该掩膜板包括对位区，该对位区用于在一定强度光照下获得预设反射率以进行对位；对对位区进行反射处理，以使得掩膜板具有与该预设反射率相同范围的反射率。通过这种反射处理，使得不同类型的掩膜板在对位时，不需要调整光源强度或画面对比度也能获得相同且适合相应掩膜板的画面清晰度，减少了人工作业，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 对位 反射率 预设 反射 画面对比度 强度光照 人工作业 生产效率 光源 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括对位区，所述对位区用于在一定强度光照下获得预设反射率以进行对位；/n对所述对位区进行反射处理，以使得所述掩膜板具有与所述预设反射率相同范围的反射率，所述掩膜板为多层结构的金属掩膜板，所述掩膜板包括第二图案层，所述第二图案层设有所述对位区，所述对所述对位区进行反射处理，以使得所述掩膜板具有与所述预设反射率相同范围的反射率包括：/n在所述第二图案层上形成覆盖所述对位区的第一材料层，以使得所述对位区在所述光照下获得与所述预设反射率相同范围的反射率。/n
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