[发明专利]过流保护电路及曝光机台有效

专利信息
申请号: 201710638219.8 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN107294053B 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 桂宇畅 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H02H3/08 分类号: H02H3/08;H02H3/04
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 430070 湖北省武汉市武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种过流保护电路及曝光机台。过流保护电路包括侦测单元、记录单元、判断单元及控制单元,侦测单元侦测流经曝光机台中的光源的电流,记录单元记录电流的波峰值,判断单元判断第(n+2)个波峰的波峰值是否大于第(n+1)个波峰的波峰值,且判断第(n+2)个波峰的波峰值是否大于或等于基准值的预设倍数,当第(n+2)个波峰的波峰值大于第(n+1)个波峰的波峰值且第(n+2)个波峰的波峰值大于或等于基准值的预设倍数时发出控制信号以控制光源断电,当电流中第(n)个波峰的波峰值大于电流中第(n+1)个波峰的波峰值时,电流中第(n)个波峰的波峰值被取做基准值,当电流中第(n)个波峰的波峰值小于电流中第(n+1)个波峰的波峰值时,电流中第(n+1)个波峰的波峰值被取做基准值,n为正整数。
搜索关键词: 保护 电路 曝光 机台
【主权项】:
1.一种过流保护电路,其特征在于,所述过流保护电路包括侦测单元、记录单元、判断单元及控制单元,所述侦测单元用于侦测流经曝光机台中的光源的电流,所述记录单元用于记录流经所述曝光机台中的光源的电流的波峰值,所述判断单元用于判断所述电流中第n+2个波峰的波峰值是否大于所述电流中第n+1个波峰的波峰值,且判断所述电流中第n+2个波峰的波峰值是否大于或等于基准值的预设倍数,当所述电流中第n+2个波峰的波峰值大于所述电流中第n+1个波峰的波峰值且所述电流中第n+2个波峰的波峰值大于或等于基准值的预设倍数时发出控制信号,所述控制信号用于控制所述曝光机台中的光源断电,其中,当所述电流中第n个波峰的波峰值大于所述电流中第n+1个波峰的波峰值时,所述电流中第n个波峰的波峰值被取做所述基准值,当所述电流中第n个波峰的波峰值小于所述电流中第n+1个波峰的波峰值时,所述电流中第n+1个波峰的波峰值被取做所述基准值,且所述n为正整数。
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