[发明专利]一种光配向基台、光配向设备及其控制方法有效
申请号: | 201710637523.0 | 申请日: | 2017-07-28 |
公开(公告)号: | CN107219687B | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 郭远辉 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/13 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种光配向基台、光配向设备及其控制方法,涉及显示技术领域,能够解决现有技术中,在光源照射条件下,待配向基板上各个位置处所受到的局部光强度无法检测的问题。包括:机台,用于支撑放置待配向基板。多个光敏电阻,分布设置在机台放置待配向基板的一侧表面。信号发射器和信号接收器,信号发射器和信号接收器分别与每个光敏电阻的两端电连接,信号发射器用于向光敏电阻发出初始电信号,信号接收器用于接收输出电信号。 | ||
搜索关键词: | 一种 设备 及其 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种光配向基台,其特征在于,包括:机台,用于支撑放置待配向基板;多个光敏电阻,分布设置在所述机台放置所述待配向基板的一侧表面;信号发射器和信号接收器,所述信号发射器和所述信号接收器分别与每个所述光敏电阻的两端电连接,所述信号发射器用于向所述光敏电阻发出初始电信号,所述信号接收器用于接收输出电信号。
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