[发明专利]用于处理腔室的陶瓷涂覆的石英盖体

摘要

本公开内容的实施方式包括用于降低处理腔室内的颗粒产生的方法和设备。在一个实施方式中，本发明提供一种用于基板处理腔室的盖体。盖体包括：盖构件，所述盖构件具有第一表面和与第一表面相对的第二表面；通过所述盖构件的中央开口，其中所述中央开口的内轮廓包括具有第一直径的第一段、具有第二直径的第二段和具有第三直径的第三段，其中第二直径是在第一直径和第三直径之间，且第一直径从第二段朝向盖构件第一表面增加；和沟槽，所述沟槽沿着第一表面中的封闭路径形成且具有形成在沟槽的内表面中的凹槽。

主权项

一种用于基板处理腔室的盖体，包含：盖构件，所述盖构件具有第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、内周边表面、和与所述内周边表面相对的外周边表面；通过所述盖构件的开口，所述开口由所述内周边表面界定，所述内周边表面包含具有第一内直径的第一段和具有第二内直径的第二段，所述第一内直径自所述第一表面逐渐减小向所述第二内直径；和沟槽，所述沟槽形成在所述第一表面中，所述沟槽围绕所述开口。