[发明专利]光阻浓度的控制装置及控制方法有效

专利信息
申请号: 201710617397.2 申请日: 2017-07-26
公开(公告)号: CN107526193B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 刘超 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种光阻剥离液的控制装置及控制方法,控制装置包括:用于存储光阻剥离新液的第一存储槽、用于存储光阻剥离液的光阻剥离槽、用于存储光阻剥离废液的第二存储槽、检测器以及控制器;光阻剥离槽和第一存储槽通过第一开关连通;光阻剥离废液为从光阻剥离槽排出的光阻剥离液,第二存储槽和光阻剥离槽通过第二开关连通;检测器固定于所阻剥离槽内,用于检测光阻剥离槽中光阻剥离液的光阻浓度X;控制器,用于根据光阻浓度X控制第二开关打开和关闭,以使得光阻剥离槽中光阻剥离液的预设量Y流出至所述第二存储槽内;以及用于根据光阻浓度X控制第一开关打开和关闭,以使得第一存储槽中光阻剥离新液的预设量Y流入到光阻剥离槽内。
搜索关键词: 浓度 控制 装置 方法
【主权项】:
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