[发明专利]一种原子层沉积设备的进气系统及其方法

摘要

本发明公开了一种原子层沉积设备的进气系统，包括相互独立的第一反应腔室和第二反应腔室，第一反应腔室设有第一进气口和第二进气口，第二反应腔室设有第三进气口和第四进气口，第一进气口和第三进气口通过管道连接有一第一气源，第二进气口和第四进气口通过管道连接有一第二气源，第一反应腔室和第二反应腔室分别设有一排气口，两个排气口通过管道连接有真空泵。本发明可提高第一气源和第二气源的利用率，减少气源的闲置时间，提高整体的成膜效率。

主权项

一种原子层沉积设备的进气系统，其特征在于：包括相互独立的第一反应腔室和第二反应腔室，所述第一反应腔室设有第一进气口和第二进气口，所述第二反应腔室设有第三进气口和第四进气口，所述第一进气口和所述第三进气口通过管道连接有一第一气源，所述第二进气口和所述第四进气口通过管道连接有一第二气源，所述第一反应腔室和所述第二反应腔室分别设有一排气口，两个所述排气口通过管道连接有真空泵。