[发明专利]一种显示装置、阵列基板及其制备方法在审
| 申请号： | 201710611675.3 | 申请日： | 2017-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN107422555A | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 杨昆;王幸 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1335;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种显示装置、阵列基板及其制备方法。该阵列基板包括基板；以及设置在所述基板上的若干个顶栅型的薄膜晶体管；其中，所述薄膜晶体管在对应的沟道区的背光光通道上设置有光反射结构。本申请中的阵列基板通过在阵列基板的薄膜晶体管的沟道区上设置光反射结构，即在背光光源与半导体有源层之间的背光光通道上设置了光反射结构，进而避免了背光光源出射的光对薄膜晶体管中半导体有源层的破坏，且提高背光光源的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显示装置 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；以及设置在所述基板上的若干个顶栅型的薄膜晶体管；其中，所述薄膜晶体管在对应的沟道区的背光光通道上设置有光反射结构。
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