[发明专利]一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备有效
| 申请号： | 201710608226.3 | 申请日： | 2017-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN107227445B | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 华伟刚;曲士广 | 申请（专利权）人： | 曲士广;华伟刚 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/04 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 264003 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明属于管内壁薄膜沉积领域，具体来讲是一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备。该设备包括置于真空室内的管状等离子靶材，管状真空聚焦永磁体，等离子弧引弧装置，其中，管状等离子靶材的两端通过绝缘密封法兰与真空室壳连接上，管状工件非接触套于管状等离子靶材上，两组以上的管状真空聚焦永磁体在管状等离子靶材管内沿管向按反向磁极顺序排放，聚焦控制分布电弧，离化弧靶材料。本发明可将镀膜材料的阴离子导入到管内壁更深的区域。本发明解决电弧离子镀沉积深管内壁深度不够、涂层不均匀的难题，提出一种在现有电弧离子镀技术的基础上制作简单、成本低廉、易于实施的设计思路，拓展电弧离子镀技术在沉积管内壁方面的应用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 内壁 涂层 电弧 离子镀 设备 | ||
【主权项】：
1.一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备，其特征在于，该设备包括置于真空室内的管状等离子靶材、管状真空聚焦永磁体、等离子弧引弧装置；其中，管状等离子靶材的两端通过绝缘密封法兰与真空室壳连接上，管状工件非接触套于管状等离子靶材上，两组以上的管状真空聚焦永磁体在管状等离子靶材管内沿管向按反向磁极顺序排放，聚焦控制分布电弧，离化弧靶材料；等离子弧引弧装置通过绝缘密封法兰安装在真空室上，等离子弧引弧装置通过旋转触发引弧，管状等离子靶材两端连接偱环水冷却装置。
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