[发明专利]一种硼缺陷氮化硼纳米片及其制备方法和用途有效

专利信息
申请号: 201710605214.5 申请日: 2017-07-24
公开(公告)号: CN107265417B 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: 熊君;罗静;杨磊;朱文帅;李华明 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: C01B21/064 分类号: C01B21/064;B01J20/02;B01J20/28;B01J20/30;C10G25/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及吸附脱硫的非金属吸附剂,特指一种硼缺陷氮化硼纳米片及其制备方法和在吸附降低燃油中芳香硫化物的用途。将硼酸和氮源溶解到超纯水中,然后加入共反应源,上述溶液在80~90℃下搅拌蒸发。(2)待溶液全部蒸发完后,所得固体放入管式炉中在氮气或氨气的气氛下700~1000℃煅烧5h,得到硼缺陷氮化硼纳米片;由于部分硼原子的缺失,导致氮化硼化学硬度降低,能与软碱的二苯并噻吩形成很好的相互作用,从而除去燃油中的二苯并噻吩。
搜索关键词: 氮化硼纳米 二苯并噻吩 制备 蒸发 氨气 氮气 硼酸 芳香硫化物 化学硬度 吸附脱硫 氮化硼 反应源 管式炉 硼原子 吸附剂 氮源 放入 软碱 水中 吸附 煅烧 溶解
【主权项】:
1.一种硼缺陷氮化硼纳米片,其特征在于,采用如下方法制备:(1)将硼酸和氮源溶解到超纯水中,然后加入共反应源,上述溶液在80~90℃下搅拌蒸发;(2)待溶液全部蒸发完后,所得固体放入管式炉中在氮气或氨气的气氛下700~1000℃煅烧5h,得到硼缺陷氮化硼纳米片;所述的氮源是二氰二胺;所述硼酸和氮源的摩尔比是1:6~1:12;所述的共反应源是指巴比妥酸,所述的巴比妥酸与硼酸的摩尔比为0.1:1~2:1。
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