[发明专利]一种光刻仿真系统有效
| 申请号： | 201710602290.0 | 申请日： | 2017-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN109283796B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 柏耸;邢滨;刘畅 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 翟海青;高伟 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻仿真系统，涉及半导体技术领域。所述系统包括：掩模，所述掩模包括透光区域和不透光区域；照明光源，用于发出光束；投影成像透镜系统，从所述掩模透过的至少部分光经所述投影成像透镜系统后照射到衬垫区并形成光斑，其中，所述衬垫区设置在晶圆上；光瞳探测器，设置在所述投影成像透镜系统的光瞳面位置，其中所述光瞳探测器用于接收所述光斑从所述晶圆表面反射回的光形成光瞳图像并探测和输出所述光瞳图像。该光刻仿真系统通过硬件辅助方式能够提高光刻仿真精度，并降低计算量，还能用于对晶圆表面的一些例如粗糙度的检测，以及改善足部或底切等缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 仿真 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光刻仿真系统，其特征在于，所述系统包括：掩模，所述掩模包括透光区域和不透光区域；照明光源，用于发出光束；投影成像透镜系统，从所述掩模透过的至少部分光经所述投影成像透镜系统后照射到衬垫区并形成光斑，其中，所述衬垫区设置在晶圆上；光瞳探测器，设置在所述投影成像透镜系统的光瞳面位置，其中所述光瞳探测器用于接收所述光斑从所述晶圆表面反射回的光形成光瞳图像并探测和输出所述光瞳图像。
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