[发明专利]一种无公害苦瓜种植方法

摘要

一种无公害苦瓜种植方法，包括下列步骤：选种，应选择瓜蔓短、节间短、叶片小、抗逆性强和抗病力强的品种；育苗，应选择苗高8‑12cm的种苗；定植，幼苗有3叶1心时定植，苗龄35天；定植前整地，南北向挖栽培槽，槽内径宽0.5米、深0.15米、槽间距0.5米；槽底铺一层塑料薄膜与土壤隔离，糟中装填基质1立方米；将栽培基质翻匀整平，并浇二次水，使基质充分吸水，水渗下后按每槽一行的规格扒坑定植；采收，开花后15天为采收适期。本发明种植的不使用化肥和农药，无苦瓜农药残留，对人的身体无损害。

主权项

1.一种无公害苦瓜种植方法，其特征是：包括下列步骤：（一）选种 应选择瓜蔓短、节间短、叶片小、抗逆性强和抗病力强的品种；（二）育苗 种苗应选择苗高8‑12cm的种苗定植；育苗基质以草灰和硅酸盐按体积比3:1的比例混合，1立方米混合基质中再配入10千克烘干鸡粪，混合均匀，将营养钵排入苗床内，给基质浇透水，待水下渗后播种，每钵用1粒种子，干子直播，播后覆盖0.3厘米厚的育苗基质；出苗前温度保持在24摄氏度，出苗后温度为白天20‑25摄氏度，夜间15‑20；苗床每天早晨或傍晚用喷壶喷水1‑2遍，以防基质板结、干燥；幼苗出土后，保持土壤见干见湿；（三）定植 幼苗有3叶1心时定植，苗龄35天；定植前整地，南北向挖栽培槽，槽内径宽0.5米、深0.15米、槽间距0.5米；槽底铺一层塑料薄膜与土壤隔离，糟中装填基质1立方米；将栽培基质翻匀整平，并浇二次水，使基质充分吸水，水渗下后按每槽一行的规格扒坑定植； 定植后的管理温度管理:开花前，棚室内昼温保持在23摄氏度，夜温14摄氏度；开花后，棚室内昼温保持在26摄氏度，夜温13摄氏度；肥水管理:开花前以控为主，少浇水追肥，开花后开始追肥浇水，3天浇1次水，隔2次水随水冲施1次氮磷钾复合肥；植株调整:利用棚室支架，在膜下25厘米处搭二层棚架，供瓜蔓攀缘生长，甩蔓后用吊绳引蔓上架，植株长到笼片叶时打顶，促侧枝萌发，侧蔓留2个雌花，并在第3个瓜后留2片叶打头；人工授粉:于早上采摘盛开的雄花，进行花对花授粉；（四）采收开花后15天为采收适期。