[发明专利]一种背光检测光电二极管结构及其加工方法

摘要

本发明涉及光器件技术领域，提供了一种背光检测光电二极管结构及其加工方法。结构中衬底10上生长有缓冲层20、光吸收层30、帽层40和接触层50，结构还包括：位于所述衬底10的收光面一侧设置有一带预设曲率的弧面91，其中所述弧面91的曲率为30‑60°；所述衬底10的弧面91生长有抗反射层90。本发明设计一种背光检测光电二极管结构，通过腐蚀出特殊的台型(即所述带预设曲率的弧面91的衬底10)，解决电吸收调制激光器在蝶型封装中遇到耦合的问题，并采用端面镀膜工艺(即生长抗反射层90)，提升光电二极管响应度，提高背光检测效率。

主权项

1.一种背光检测光电二极管结构，结构中的衬底(10)上生长有缓冲层(20)、光吸收层(30)、帽层(40)和接触层(50)，其特征在于，结构还包括：位于所述衬底(10)的收光面一侧设置有一带预设曲率的弧面(91)，其中所述弧面(91)的曲率为30‑60°，并且所述弧面(91)相对衬底(10)为内凹弧面；所述衬底(10)的弧面(91)生长有抗反射层(90)；所述衬底(10)的背光面一侧还设置有反射面(110)，所述反射面(110)为多层的SiO₂和的TiO₂依次层叠形成。