[发明专利]AEC模式下曝光截止剂量校正方法及装置有效

专利信息
申请号: 201710569966.0 申请日: 2015-08-10
公开(公告)号: CN107374659B 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 夏晓晶;代蓓 申请(专利权)人: 上海联影医疗科技股份有限公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 刘葛
地址: 201807 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种AEC模式下曝光截止剂量校正方法,本方法统计特定年龄区间的待检部位在非AEC模式下的曝光截止剂量并计算曝光截止剂量的均值,在均值满足预设条件时,以所述均值作为对应的AEC模式下曝光截止剂量。本发明还公开了一种AEC模式下曝光截止剂量校正装置和X射线摄影系统。本发明的AEC模式下曝光截至剂量的校正方法可以得到更符合实际临床检查的曝光截止剂量,提高检查结果的准确性,使得自动曝光控制更加符合实际成像需求,在最低剂量条件下达到最优图像质量。
搜索关键词: aec 模式 曝光 截止 剂量 校正 方法 装置
【主权项】:
一种AEC模式下曝光截止剂量校正方法,其特征在于,包括以下步骤:统计特定年龄区间的待检部位在非AEC模式下的曝光截止剂量并计算所述曝光截止剂量的均值;在所述曝光截止剂量的均值与所述特定年龄区间的待检部位预存的在AEC模式下的曝光截止剂量的差值超出预设阈值时:以在所述曝光截止剂量的均值对所述待检部位曝光以获得医学图像;若所述医学图像被认定为合格的,则以曝光所用的所述曝光截止剂量的均值将所述特定年龄区间的待检部位所对应的预存的在AEC模式下的曝光截止剂量更新。
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