[发明专利]一种Mg‑Sb‑Se纳米相变薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710537533.7 申请日: 2017-07-04
公开(公告)号: CN107342362A 公开(公告)日: 2017-11-10
发明(设计)人: 吴冬燕;章雯;吴阳江 申请(专利权)人: 苏州工业职业技术学院
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/18
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司32224 代理人: 刘艳艳,董建林
地址: 215104 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种用于高稳定性相变存储器的Mg‑Sb‑Se纳米相变薄膜,所述Mg‑Sb‑Se纳米相变薄膜化学组成符合化学通式MgxSbySe100‑x‑y,其中0.10<x<30.00,20.00<y<80.00;采用磁控溅射方法生长于SiO2/Si(100)基片上;本发明提供的Mg‑Sb‑Se纳米相变薄膜及其制备方法,能够应用于相变存储器,=具有如下优点首先,Mg‑Sb‑Se纳米相变薄膜材料具有较快的晶化速度,能够大大提高PCRAM的存储速度;其次,Mg‑Sb‑Se纳米相变薄膜材料具有较高的激活能,从而能够极大的改善PCRAM的热稳定性;再次,Mg‑Sb‑Se相变材料中不含有有毒、易挥发的Te元素,因而相比传统的Ge2Sb2Te5材料,对人体和环境的影响较小。
搜索关键词: 一种 mg sb se 纳米 相变 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种Mg‑Sb‑Se纳米相变薄膜,其特征在于:所述Mg‑Sb‑Se纳米相变薄膜化学组成符合化学通式:MgxSbySe100‑x‑y,其中0.10<x<30.00,20.00<y<80.00。
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