[发明专利]SiNbC/SiNbCN叠层复合涂层刀具及其制备工艺有效

专利信息
申请号: 201710532803.5 申请日: 2017-07-03
公开(公告)号: CN107177827B 公开(公告)日: 2019-08-30
发明(设计)人: 宋文龙;张利;王首军;张璇 申请(专利权)人: 济宁学院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 代理人: 蔡绍强
地址: 272001 山东省济宁*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于机械制造金属切削刀具领域,特别是涉及一种SiNbC/SiNbCN叠层复合涂层刀具及其制备工艺,在刀具基体上从内到外依次为:Ti过渡层、SiNbC涂层与SiNbCN涂层交替的复合叠层结构,最外层为SiNbCN涂层。本发明采用非平衡磁控溅射+电弧离子镀的复合镀膜方法,直接采用非平衡磁控溅射SiNbC复合靶作碳源,且沉积温度控制在300℃以下,可在更为广泛的刀具或工具基体上制备;本发明所制备的SiNbC/SiNbCN叠层复合涂层刀具综合了SiNbC碳化物涂层、SiNbCN碳氮化合物涂层及叠层结构的优点,较传统的碳氮化合物涂层刀具具有更优良的物理机械性能,可广泛应用于钢、铁素体、马氏体不锈钢、铸铁、钛合金等绝大多数工件材料的精加工和半精加工。
搜索关键词: sinbc sinbcn 复合 涂层 刀具 及其 制备 工艺
【主权项】:
1.一种SiNbC/SiNbCN叠层复合涂层刀具的制备工艺,其特征在于:刀具基体材料为高速钢、工具钢、模具钢、硬质合金、陶瓷、金刚石或立方氮化硼,在刀具基体上从内到外依次为:Ti过渡层、SiNbC涂层与SiNbCN涂层交替的复合叠层结构,最外层为SiNbCN涂层;沉积方式为采用非平衡磁控溅射+电弧离子镀复合镀膜方法,沉积时使用2个非平衡磁控溅射SiNbC复合靶,2个电弧离子镀Ti靶:首先采用电弧离子镀沉积Ti过渡层,然后采用非平衡磁控溅射方法交替沉积SiNbC涂层与SiNbCN涂层,最外层为SiNbCN涂层;其中:非平衡磁控溅射SiNbC复合靶中包含重量分数为40‑70wt%的Si、20‑40wt%的Nb和10‑20wt%的C;其制备工艺为:(1)前处理:将刀具基体表面抛光,去除表面油污、锈迹杂质,然后依次放入酒精和丙酮中,超声清洗各40min,去除刀具表面油污和其它附着物,电吹风干燥充分后迅速放入镀膜机,抽真空至8.0×10‑3Pa,加热至280℃,保温40min;(2)离子清洗:通Ar气,其压力为1.1Pa,开启偏压电源,电压600V,占空比0.2,辉光放电清洗50min;降低偏压至400V,占空比0.2,开启离子源离子清洗45min,开启电弧离子镀Ti靶电源,Ti靶电流65A,偏压250V,占空比0.2,离子轰击1~2min;(3)沉积Ti过渡层:Ar气压0.8~0.9Pa,偏压降至170V,电弧离子镀Ti靶电流90A,沉积温度260℃,沉积Ti过渡层5~6min;(4)沉积SiNbC层:关闭电弧离子镀Ti靶电源,Ar气压0.8~0.9Pa,偏压调至150V,沉积温度210℃,开启非平衡磁控溅射SiNbC复合靶电流25A,沉积SiNbC层1~2min;(5)沉积SiNbCN层:开启N2,N2气压为1.4Pa,Ar气压0.7~0.8Pa,偏压150V,SiNbC靶电流30A,沉积温度210℃,复合沉积SiNbCN层1~2min;(6)沉积SiNbC层:关闭N2,重复(4),沉积SiNbC层1~2min;(7)重复(5)、(6)、(5)……(6)、(5):交替沉积SiNbC层、SiNbCN层、SiNbC层···SiNbC层、表层的SiNbCN层,共沉积75min;(8)后处理:关闭各靶电源、离子源及气体源,涂层结束。
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