[发明专利]一种快关断绝缘体上硅横向绝缘栅双极型晶体管器件有效

专利信息
申请号: 201710530053.8 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN107293585B 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: 祝靖;汤清溪;张龙;孙伟锋;陆生礼;时龙兴 申请(专利权)人: 东南大学;东南大学-无锡集成电路技术研究所
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/08;H01L29/06
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 214135 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种快关断绝缘体上硅横向绝缘栅双极型晶体管,在P型衬底上设有埋氧,在埋氧上设有N型漂移区,其上设有N型缓冲区和P型体区,在N型缓冲区内设有P型集电极区,其上连接有集电极金属,在P型体区内设有N型发射极区,其右侧设有P型发射区,在发射极区上连接有发射极金属,在N型漂移区的上方设有场氧层,在N型发射区左侧设有纵向沟槽,在其内设有由二氧化硅或其它耐压介质包裹的多晶硅层,其上连接有栅金属,在纵向沟槽的左侧设有P型发射极区块体,其上连接有发射极金属,在场氧层与P型发射区之间设有纵向沟槽,在其内设有由二氧化硅或其它耐压介质包裹的多晶硅层,其上连接有栅金属,在栅金属和发射极金属之间设有氧化层。
搜索关键词: 一种 断绝 缘体上硅 横向 绝缘 栅双极型 晶体管 器件
【主权项】:
一种快关断绝缘体上硅横向绝缘栅双极型晶体管器件,包括:P型衬底(1),在P型衬底(1)上设有埋氧(2),在埋氧(2)上设有N型漂移区(20),在N型漂移区(20)的两侧分别设有N型缓冲区(10)和P型体区(7),在N型缓冲区(10)内设有重掺杂的P型集电极区(9),重掺杂的P型集电极区(9)上连接有集电极金属(19),在P型体区(7)内设有重掺杂的N型发射极区(11),在重掺杂的N型发射极区(11)的右侧设有重掺杂的P型发射区(8b),在上述重掺杂的P型发射极区(8b)和重掺杂的N型发射区(11)上连接有第二发射极金属(15),在N型漂移区(20)的上方设有场氧层(18),所述场氧层(18)的一侧边界落在N型缓冲区(10)的上方,另一侧边界与P型体区(7)相接,其特征在于,在重掺杂的N型发射区(11)左侧设有第一纵向沟槽(3),在第一纵向沟槽(3)内设有由二氧化硅或其它耐压介质包裹的第一多晶硅层(4),在第一多晶硅层(4)上连接有第一栅金属(12),在第一纵向沟槽(3)左侧设有重掺杂P型发射极区块体(8a),发射极区块体(8a)间隔分布,发射极区块体(8a)上连接有第一发射极金属(22),在场氧层(18)与重掺杂的P型发射区(8b)之间设有第二纵向沟槽(5),在第二纵向沟槽(5)内设有由二氧化硅或其它耐压介质包裹的第二多晶硅层(6),在第二多晶硅层(6)上连接有第二栅金属(17),在第二栅金属(17)和第二发射极金属(15)之间设有氧化层(16),在第一栅金属(12)和第二发射极金属(15)之间设有氧化层(13),在第一发射极金属(22)和第一栅金属(12)之间设有氧化层(14)。
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