[发明专利]近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710527432.1 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN107369687B 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 韩素婷;翟永彪;周晔 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: H01L27/11517 分类号: H01L27/11517;H01L29/22;H01L29/423;H01L29/788
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 518060 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器及其制备方法,从上至下依次包括:源漏电极、半导体层、隧穿层、浮栅层、阻挡层、栅极和基底;其中,所述半导体层由ZnO制成,所述浮栅层由上转换荧光纳米颗粒制成。本发明利用上转换荧光纳米颗粒在近红外光作用下发出紫外光,ZnO半导体吸收紫外光产生载流子,在电场作用下,产生的载流子被捕获在浮栅层中。在这个过程中,近红外光间接增加了可被捕获的载流子数目,有效增强了存储器存储窗口并且实现了多比特存储。同时,本发明利用价格低廉的ZnO作为存储器半导体层,显著降低了存储器价格。相比传统晶体管型存储器,本发明所述的存储器不仅性能可以明显提高,成本也显著降低。
搜索关键词: 红外光 增强 zno 晶体管 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器的制备方法,其特征在于,包括:步骤A’、利用溶胶凝胶法制备上转换荧光纳米颗粒;步骤B’、利用溶液法制备ZnO;步骤C’、依次将银蒸镀到PET基底上形成栅极,将Al2O3沉积到栅极上形成阻挡层,将上转换荧光纳米颗粒沉积到阻挡层上形成浮栅层,将Al2O3沉积到浮栅层形成隧穿层,将ZnO沉积到隧穿层上形成半导体层,半导体层厚度为20nm,最后在半导体层上沉积金形成源漏电极,得到近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器;所述步骤A’具体包括:步骤A01’、按如下摩尔比将Y的硝酸盐、Yb的硝酸盐、Er的硝酸盐/Tm的硝酸盐溶于油酸和1‑十八烯的混合溶液中,在160℃下保温半小时,再降到室温;其中,Y:(Yb + Er/Tm)=5:1;Yb:Er/Tm=20:1;步骤A02’、将氢氧化钠和氟化铵溶于甲醇中,然后将其滴入经所述步骤A01’处理后的溶液中;步骤A03’、将经所述步骤A02’处理后的溶液蒸馏除去甲醇,然后在惰性气体气氛中,在300℃下保温1小时,制得尺寸为10‑50nm的上转换荧光纳米颗粒。
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