[发明专利]近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器及其制备方法有效
| 申请号: | 201710527432.1 | 申请日: | 2017-06-30 |
| 公开(公告)号: | CN107369687B | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
| 发明(设计)人: | 韩素婷;翟永彪;周晔 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
| 主分类号: | H01L27/11517 | 分类号: | H01L27/11517;H01L29/22;H01L29/423;H01L29/788 |
| 代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
| 地址: | 518060 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开了近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器及其制备方法,从上至下依次包括:源漏电极、半导体层、隧穿层、浮栅层、阻挡层、栅极和基底;其中,所述半导体层由ZnO制成,所述浮栅层由上转换荧光纳米颗粒制成。本发明利用上转换荧光纳米颗粒在近红外光作用下发出紫外光,ZnO半导体吸收紫外光产生载流子,在电场作用下,产生的载流子被捕获在浮栅层中。在这个过程中,近红外光间接增加了可被捕获的载流子数目,有效增强了存储器存储窗口并且实现了多比特存储。同时,本发明利用价格低廉的ZnO作为存储器半导体层,显著降低了存储器价格。相比传统晶体管型存储器,本发明所述的存储器不仅性能可以明显提高,成本也显著降低。 | ||
| 搜索关键词: | 红外光 增强 zno 晶体管 存储器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器的制备方法,其特征在于,包括:步骤A’、利用溶胶凝胶法制备上转换荧光纳米颗粒;步骤B’、利用溶液法制备ZnO;步骤C’、依次将银蒸镀到PET基底上形成栅极,将Al2O3沉积到栅极上形成阻挡层,将上转换荧光纳米颗粒沉积到阻挡层上形成浮栅层,将Al2O3沉积到浮栅层形成隧穿层,将ZnO沉积到隧穿层上形成半导体层,半导体层厚度为20nm,最后在半导体层上沉积金形成源漏电极,得到近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器;所述步骤A’具体包括:步骤A01’、按如下摩尔比将Y的硝酸盐、Yb的硝酸盐、Er的硝酸盐/Tm的硝酸盐溶于油酸和1‑十八烯的混合溶液中,在160℃下保温半小时,再降到室温;其中,Y:(Yb + Er/Tm)=5:1;Yb:Er/Tm=20:1;步骤A02’、将氢氧化钠和氟化铵溶于甲醇中,然后将其滴入经所述步骤A01’处理后的溶液中;步骤A03’、将经所述步骤A02’处理后的溶液蒸馏除去甲醇,然后在惰性气体气氛中,在300℃下保温1小时,制得尺寸为10‑50nm的上转换荧光纳米颗粒。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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