[发明专利]一种超微型半导体致冷器件的制作工艺有效

专利信息
申请号: 201710505937.8 申请日: 2017-06-27
公开(公告)号: CN107359233B 公开(公告)日: 2019-12-27
发明(设计)人: 赵丽妍 申请(专利权)人: 秦皇岛富连京电子股份有限公司
主分类号: H01L35/34 分类号: H01L35/34
代理公司: 11399 北京冠和权律师事务所 代理人: 朱健;陈国军
地址: 066000 河北省*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种超微型半导体致冷器件的制作工艺,包括以下步骤:步骤S1、将喷有金属镀层的晶片粘接在蓝膜上,再对晶片划切成晶粒,以及使用扩膜机对蓝膜及其上粘接着的晶粒扩展,并将扩展后蓝膜背向晶粒一侧面置于模具上;步骤S2、利用排片机上的吸头将步骤S1得到模具上晶粒吸起,并放置到瓷片指定位置;步骤S3、将步骤S2得到的瓷片放置在返修台的加热台上,将另一个瓷片与步骤S2得到的瓷片对齐并贴附压紧,再启动加热台进行加温焊接,焊接完成后冷却。其中,由于晶粒摆放采用排片机自动吸、放,晶粒位置更加准确,而且上下瓷片对位采用返修台的光学对位系统,实现上下瓷片对位的目的,效率更高,操作更加准确。
搜索关键词: 一种 微型 半导体 致冷 器件 制作 工艺
【主权项】:
1.一种超微型半导体致冷器件的制作工艺,其特征在于,包括以下步骤:/n步骤S1、先将贯穿分布有定位窗口的透明柔性膜粘贴在蓝膜上,然后将喷有金属镀层的晶片粘接在蓝膜上,再根据定位窗口的位置对晶片划切成晶粒,使得晶粒位于定位窗口内,以及使用扩膜机对蓝膜及其上粘接着的晶粒扩展,并将扩展后蓝膜背向晶粒一侧面置于模具上;/n在晶片上喷金属镀层的步骤包括:镍丝经过加温后均匀喷于晶片表面上,喷好镍后再镀一层锡;/n步骤S2、将步骤S1得到的模具安装到排片机的材料架上,将印刷完焊膏的瓷片放置在排片机的工作台上,在瓷片的焊膏上形成分布设置的定位槽口,利用排片机上的吸头将步骤S1得到模具上晶粒吸起,并放置到瓷片定位槽口中;/n步骤S3、将步骤S2得到的瓷片放置在返修台的加热台上,先在另一个瓷片面向步骤S2得到的瓷片一侧面的四周边缘上形成导热涂层,再将另一个瓷片吸附在返修台上方的吸口上,将另一个瓷片与步骤S2得到的瓷片对齐并贴附压紧,再启动加热台进行加温焊接,焊接温度为220~290℃,时间为1-2min,焊接完成后冷却。/n
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