[发明专利]利用电场操控空穴分布制造闪耀光栅的方法有效
| 申请号： | 201710499742.7 | 申请日： | 2017-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN107193068B | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 刘红忠;陈邦道;史永胜;尹磊 | 申请（专利权）人： | 常州瑞丰特科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 常州市天龙专利事务所有限公司 32105 | 代理人： | 庞翠 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种利用电场操控空穴分布制造闪耀光栅的方法，包括以下步骤：（1）对硅片进行浸泡亲水处理，冲洗，吹干，烘干；去除硅片表面残留的有机物；经过匀胶、显影、溅射、剥离半导体工艺获得图形化的金属薄膜，配置刻蚀溶液，在水浴中制备闪耀光栅；（2）通过调节两个电场极板之间的夹角来调控闪耀光栅的闪耀角大小；通过改变电场强度调控空穴在硅片中的分布梯度；通过交替使用两个电场获取齿状槽型。本发明具备控制精确、成本低、工艺简单、经济性好以及制备周期短等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 电场 操控 空穴 分布 制造 闪耀 光栅 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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