[发明专利]一种改善CIS器件白像素点的ISO版图结构在审

专利信息
申请号: 201710496392.9 申请日: 2017-06-26
公开(公告)号: CN107195651A 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 孙赛;蒲甜松;曹亚民 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 智云
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提出一种改善CIS器件白像素点的ISO版图结构,包括四手指结构,对左右上下四个多晶硅发射极进行隔离;四个发射极组间隔离,分别连接于所述四手指结构。本发明提出的改善CIS器件白像素点的ISO版图结构,针对ISO 2个手指结构隔离效果有限而可能影响白像素的问题,采用四手指结构用于隔离左右上下四个多晶硅发射极,同时增加四个发射极组间隔离,以进一步减少漏电,改善白像素性能。
搜索关键词: 一种 改善 cis 器件 像素 iso 版图 结构
【主权项】:
一种改善CIS器件白像素点的ISO版图结构,其特征在于,包括:四手指结构,对左右上下四个多晶硅发射极进行隔离;四个发射极组间隔离,分别连接于所述四手指结构。
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