[发明专利]4英寸图形化衬底的制作方法在审
| 申请号： | 201710462371.5 | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN107240625A | 公开（公告）日： | 2017-10-10 |
| 发明（设计）人： | 冯磊 | 申请（专利权）人： | 湘能华磊光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11603 | 代理人： | 于淼 |
| 地址： | 423038 湖南省郴*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本申请公开一种4英寸图形化衬底的制作方法，依次包括提供一4英寸衬底，包括相对设置的第一表面和第二表面；在衬底的第一表面上均匀涂覆一层正性光刻胶；以正性光刻胶作为掩膜，采用光刻方法，在衬底的第一表面上形成图形化掩膜，图形化掩膜包括若干个不连续的光刻胶柱，相邻两个光刻胶柱之间的间距为3.1um≤D1≤3.6um，间距为相邻两个光刻胶柱中第一光刻胶柱远离第二光刻胶柱一侧的边缘与第二光刻胶柱靠近第一光刻胶柱一侧的边缘之间的距离；利用CORIAL干法刻蚀机台对图形化掩膜进行刻蚀，形成图形化衬底，图形化衬底包括若干突起部。如此，使得刻蚀过程中图形衬底产生的倒角得到完全修复，提高了图形尺寸的一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 英寸 图形 衬底 制作方法 | ||
【主权项】：
一种4英寸图形化衬底的制作方法，其特征在于，依次包括：提供一4英寸衬底，所述衬底包括相对设置的第一表面和第二表面；在所述衬底的第一表面上均匀涂覆一层正性光刻胶；以所述正性光刻胶作为掩膜，采用光刻方法，在所述衬底的第一表面上形成图形化掩膜，所述图形化掩膜包括若干个不连续的光刻胶柱，相邻两个所述光刻胶柱之间的间距为3.1um≤D1≤3.6um，所述间距为相邻两个所述光刻胶柱中第一光刻胶柱远离第二光刻胶柱一侧的边缘与第二光刻胶柱靠近第一光刻胶柱一侧的边缘之间的距离；利用CORIAL干法刻蚀机台对所述图形化掩膜进行刻蚀，形成图形化衬底，所述图形化衬底包括在所述第一表面形成的若干突起部。
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