[发明专利]一种含大间距花状内核的二氧化硅蛋黄-蛋壳结构材料及其制备方法

摘要

本发明公开一种含大间距花状内核的二氧化硅蛋黄‑蛋壳结构材料及其制备方法，步骤如下（1）将CTAB和PVP充分溶于水与乙醇混合溶液，使其形成透明均一溶液；（2）将TEOS分散在环己烷中；（3）将步骤（2）中的混合物加入到步骤（1）中的溶液中，并加入氨水，通过搅拌得到白色悬浮液，然后将白色悬浮液放入进行溶剂热处理；（4）将（3）中经过溶剂热处理的白色沉淀进行过滤，洗涤，干燥，研磨后，煅烧即得。本发明制备的二氧化硅材料分散均匀，粒径为500~650 nm，壳层厚度为25 nm，蛋黄‑蛋壳间距为100~200 nm，蛋黄为花状结构，大小为300~450nm且具有丰富的孔道结构。同时，该材料空腔体积较大，使其广泛应用于酶催化、物质的吸附等领域。

主权项

1.一种含大间距花状内核的二氧化硅蛋黄‑蛋壳结构材料的制备方法，其特征是，包括以下步骤：(1)将CTAB和PVP充分溶于水和乙醇混合溶液，通过搅拌使其形成透明溶液；其中，CTAB、PVP的摩尔比为1:(0.028～0.065)；CTAB、水和乙醇的添加量比例为1g：(300～320)mL：(180～200)mL；(2)将TEOS超声分散在环己烷中；其中，TEOS和环己烷的添加量比例为1g：(2～30)mL；所述CTAB和TEOS的质量比例为1：(5～10)；(3)将步骤(2)中的混合溶液加入到步骤(1)中的混合溶液中，并加入氨水，混匀搅拌反应后得到白色悬浮液，然后将白色悬浮液进行溶剂热处理，得到白色沉淀；其中，所述溶剂热处理的温度为160～180℃，溶剂热处理静置时间为12～36h；(4)将步骤(3)中的白色沉淀进行过滤，洗涤，干燥，研磨后，煅烧，得到白色粉末，即为含大间距花状内核二氧化硅蛋黄‑蛋壳结构；步骤(1)和(2)的顺序能够互换；步骤(1)中，所述搅拌温度为25～40℃、搅拌速度为400～600r/min；步骤(3)中，所述搅拌反应温度为25～40℃，搅拌反应时间为2～8h；步骤(3)中，氨水的质量浓度为23％～25％。